这是几十倍的差距。

        同样也是几代水平的差距。

        真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。

        幸好。

        早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

        在他的湿式光刻理论的帮助之下，全球第一台浸润式光刻机就此诞生。

        “陈总，这台光刻机还不是我们最为先进的，在湿式光刻理论的支持之下，我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米，这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始，未来我们将进入45纳米，28纳米，20纳米，10纳米，甚至是7纳米之例……”

        说到技术，林本坚却是滔滔不绝。

        对于他来说，能将自己的理论得已实现，这是最为激动人心的事。

        而且他知道，一但他们的光刻机上马，他将改变全球芯片的进程，甚至改变全球半导体行业的格局。

        “林总工，辛苦了。”

        内容未完，下一页继续阅读